光学抗静电剂的电中和作用

光学抗静电剂的电中和作用

2021-09-11 23:40:00

陈旭东

原创

456

摘要：抗静电剂会在高分子材料的表面形成一个抗静电剂的单分子层

表面活性剂的结构可用 X–R–Y 通式表示，式中 X 为亲油基；Y 为亲水基；R 为连接基。亲水基团具有极性，亲油基团具有非极性，二者之间存在一个平衡值，称为亲水亲油平衡值，用 HLB 表示。HLB 值越大，说明表面活性剂分子的极性越大；反之，说明表面活性剂的极性越小。HLB 值的大小是判断抗静电剂与聚合物基体的相容性以及抗静电持久性的基本依据。当高聚物材料处于熔融状态，表面活性剂的浓度足够大时，在聚合物熔体与空气的界面层就会形成抗静电剂分子取向排列，亲水性基团会伸向熔体外部，吸附空气中的水蒸气，改变材料的吸湿性，同时当游离离子与高聚物表面的电荷相反时就会将其中和抵消，而亲油基团固定在熔体上，待熔体固化后，在高分子材料的表面就会形成一个抗静电剂的单分子层，抗静电剂的活性越强，分子的迁移速度越大，越易在材料表面形成这种单分子层，抗静电性能越好。

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